2/16/2020, 以營業(yè)額來算,美國應(yīng)用材料公司AMAT是全球十大半導(dǎo)體設(shè)備商之首。憑借其在規(guī)模生產(chǎn)的條件下可以在原子級層面改變材料的技術(shù),全球幾乎每一個新生產(chǎn)的芯片和先進顯示器的背后都有應(yīng)用材料公司的身影。該公司的產(chǎn)品線幾乎覆蓋除光刻外半導(dǎo)體生產(chǎn)每一道工藝。
應(yīng)用材料創(chuàng)業(yè)地點
1967年11月10日,應(yīng)用材料公司成立于美國加州山景城(Mountain View)處一處很小的工業(yè)廠房中。第二年該公司就推出AMS2600 Silox reactor,第一套可以在晶圓表面淀積SiO2薄膜的設(shè)備。同年推出的AMV800D垂直外延reactor系統(tǒng)支持同時處理8片2寸wafer。1969年,他們推出第一套輻射加熱的CVD系統(tǒng)。1970年,推出首套針對LED顯示器件的商用淀積系統(tǒng)。1972年實現(xiàn)IPO上市。2年后他們搬入位于Santa Clara的新廠房。1975年,全球半導(dǎo)體工業(yè)遭遇危機。在新總裁James C.Morgan的帶領(lǐng)下,應(yīng)用材料公司淘汰了若干不盈利的業(yè)務(wù),重新聚焦半導(dǎo)體設(shè)備,不到一年,他們就實現(xiàn)了17%的銷售額增長。那一年,他們同仙童公司合資成立一家生產(chǎn)多晶硅的公司。1976年,他們推出首套等離子CVD系統(tǒng)。1979年設(shè)立日本公司。1980年收購Lintott工程公司的離子注入業(yè)務(wù)。 1979年,應(yīng)用材料日本分公司成立,正式進入亞洲市場。1981年,應(yīng)用材料公司推出AME8100刻蝕系統(tǒng)。 1984年,應(yīng)用材料公司在中國開始業(yè)務(wù)并且成為第一家進入中國的外資半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)商。1987年,應(yīng)用材料公司推出Precision 5000 CVD系統(tǒng),幫助公司成為單晶圓,多腔制造的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)。1990年代,應(yīng)用材料公司積極進入平板顯示工業(yè),并率先成為300mm晶圓設(shè)備的提供商。1994年,推出PVD(物理氣相沉積)產(chǎn)品:Endura VHP PVD系統(tǒng)。 2002年,應(yīng)用材料公司在美國加利福尼亞硅谷設(shè)立梅丹(Maydan)技術(shù)中心。2016年,推出革命性的選擇性刻蝕系統(tǒng)Producer® Selectra™系統(tǒng)。
應(yīng)用材料公司的創(chuàng)始人Michael A. McNeilly出生于美國蒙大拿州,年輕時曾經(jīng)是位橄欖球和籃球運動員,后來進入華盛頓州的Gonzaga大學(xué)繼續(xù)打球和從事癌癥研究。研究生畢業(yè)后他加入美國聯(lián)合碳化物公司參與三氯氫硅業(yè)務(wù)。這種化學(xué)材料是生產(chǎn)多晶硅的重要原料。就這樣他開始和半導(dǎo)體工業(yè)粘上邊。在聯(lián)合碳化物公司,他因成功找到檢驗三氯氫硅品質(zhì)的辦法而聲名鵲起。1964年他參與參與一家叫Apogee的小公司,為半導(dǎo)體工業(yè)提供化學(xué)產(chǎn)品。這段期間他得以和半導(dǎo)體行業(yè)的先驅(qū)仙童公司來往頻繁,成為他們的供應(yīng)商之一。也是在這段時間里,他得以和包括戈登摩爾在內(nèi)的半導(dǎo)體行業(yè)先驅(qū)們建立密切的個人關(guān)系。1967年,在他28歲那年,就在他家的廚房餐桌上他創(chuàng)立了應(yīng)用材料公司。包括戈登摩爾在內(nèi)許多半導(dǎo)體大咖都是他的投資人。
值得一提的是,今天中國半導(dǎo)體設(shè)備的龍頭企業(yè)上海中微的創(chuàng)辦人尹志堯曾經(jīng)就是美國應(yīng)用材料公司的副總裁。
講完應(yīng)用材料,順便提下在半導(dǎo)體設(shè)備排行榜上排名第三的拉姆研究(也叫泛林研發(fā))。他們是向全球世界半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供晶圓制造設(shè)備和服務(wù)的主要供應(yīng)商之一。該公司由美籍華人林杰屏(David K. Lam)1980年創(chuàng)立于美國加州Santa Clara,現(xiàn)在總部位于美國加州弗里蒙特,全職雇員超過7000人。
1981,拉姆研究發(fā)布發(fā)布第一款產(chǎn)品——離子刻蝕設(shè)備AutoEtch 480;1984年,首次公開發(fā)行IPO,登陸納斯達克;1985年,發(fā)布AutoEtch 590;1987年,將總部搬到弗里蒙特Cushing Parkway,發(fā)布Rainbow 4400 Etch 系列;1988年,發(fā)明單晶圓旋轉(zhuǎn)清洗系統(tǒng);1990年,進入中國大陸市場;1991年推出SP系列旋轉(zhuǎn)清洗系統(tǒng);1995年又發(fā)布首個雙頻介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品;1996年發(fā)布HDP-CVD系統(tǒng);2000年發(fā)布2300 刻蝕平臺和VECTOR PECVD系統(tǒng);2004年發(fā)布第一代Kyyo和Flex刻蝕產(chǎn)品;2004年發(fā)布ALTUS tungsten barrier CVD系統(tǒng);2012年,與加州上市公司諾發(fā)系統(tǒng)Novellus合并;2015年,收購?fù)瑯I(yè)科磊半導(dǎo)體(KLA-Tencor )。
林杰屏博士祖籍廣東花縣。生于越南西貢堤岸。1960 年與其弟到香港培正中學(xué)學(xué)習(xí)。畢業(yè)后赴加拿大深造。1967年在多倫多大學(xué)電機物理系畢業(yè),去美國麻省理工學(xué)院攻讀化學(xué)工程。1974年獲博士學(xué)位。在得克薩斯州儀器公司任職1年后,轉(zhuǎn)到施樂公司。1976年又轉(zhuǎn)到惠普公司,任研究部門主管。 在創(chuàng)建拉姆研究之后,1983年他還創(chuàng)建了一家電腦終端公司Link科技,后來這家公司被WYSE收購。
資料來源:
AMAT網(wǎng)站
http://www1.semi.org/en/semi-oral-history-interview-michael-mcneilly